等离子体气相沉积是一种什么工艺，有什么特点呢？
文章导读：等离子体气相沉积是一种表面处理工艺，它是应用等离子体进行反应，激活气体，在基体的表面生成固态膜的一种技术，它通过高能量的电场对气体进行电离，形成等离子体，等离子体与工艺气体进行反应形成膜，贴附在基体的表面。这项工艺分为等离子体物理气相沉积和等离子体化学气相沉积，这两者有哪些不同呢？
等离子体气相沉积是一种表面处理工艺，它是应用等离子体进行反应，激活气体，在基体的表面生成固态膜的一种技术，它通过高能量的电场对气体进行电离，形成等离子体，等离子体与工艺气体进行反应形成膜，贴附在基体的表面。这项工艺分为等离子体物理气相沉积和等离子体化学气相沉积，这两者有哪些不同呢？
香蕉视频IOS下载从两者特点、实质、应用三个角度进行对比：
一、特点：
等离子体物理气相沉积：这种工艺中沉积粒子的能量可调节，在等离子体非平衡过程中，整个反应活性更高，膜层质量也更出色。
等离子体化学气相沉积：这种工艺中膜的纯度高、结晶状态好、致密性好，在反应中气体与反应物互相扩散，膜的附着力得到了保证，有利于膜的贴合，同时抗蚀、耐磨、钝化等效果也出色。
二、实质：
等离子体物理气相沉积：在反应中通过蒸发、溅射等物理的方式是镀膜材料气化，随后在基体表面沉积成膜。
等离子体化学气相沉积：直接使用气态或者蒸发态的物质在气相或气固界面进行翻译，生产固态的沉积物，结晶成膜。
三、应用：
等离子体物理气相沉积：这项技术在工业应用中已经广泛使用，实现了工业化的生产。
等离子体化学气相沉积：镀膜的产品涉及行业广泛，实用性得到了很多行业的认可。
总体来看，等离子体气相沉积技术比起过去的气相沉积工艺有独特的优势以及应用方式，同时等离子体的介入会促使气体分子的化学键断裂和重组，生成活性基团，还能降低反应温度等等，是原本高温下的气相沉积可以在低温进行。
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一、特点：
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等离子体物理气相沉积：在反应中通过蒸发、溅射等物理的方式是镀膜材料气化，随后在基体表面沉积成膜。
等离子体化学气相沉积：直接使用气态或者蒸发态的物质在气相或气固界面进行翻译，生产固态的沉积物，结晶成膜。
三、应用：
等离子体物理气相沉积：这项技术在工业应用中已经广泛使用，实现了工业化的生产。
等离子体化学气相沉积：镀膜的产品涉及行业广泛，实用性得到了很多行业的认可。
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