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    工艺流程:


    手机摄像模组支架清洗:去除有机物,活化材料表面,提高亲水性和黏附性能,防止溢胶。

    支架摆放 等离子处理中 等离子处理前:70.5° 等离子处理后:42°

    手机摄像模组W/B前清洗:去除有机物,提高W/B结合力,确保打线可靠性。
    方案一:多层水平电极+筛网托架
    工件 水平放置 等离子处理前:74.5° 等离子处理后:

    方案二:多层料盒

    料盒 等离子处理中 等离子处理前:74.5° 等离子处理后:18°
     

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